A malha do ânodo do titânio para o chapeamento de cobre horizontal no PWB imprimiu a galvanização da placa de circuito

Malha do ânodo do titânio para o chapeamento de cobre horizontal em dados convencionais do PWB

Introdução do chapeamento de cobre do PWB

O chapeamento de cobre eletrolítico ácido é uma relação importante na metalização do furo de placas de circuito impresso. Com o desenvolvimento rápido da tecnologia da microeletrônica, imprimiu a fabricação da placa de circuito ao sentido do desenvolvimento rápido multilayer, da camada, da função e da integração. Promova o projeto de circuito impresso usando um grande número furos pequenos, afastamento estreito, projeto gráfico do circuito fino do fio e projeto, fazendo a tecnologia de fabricação da placa de circuito impresso mais difícil, especialmente o prolongamento do furo direto multilayer mais do que o 5:1 e um grande número furos cegos profundos usados na placa laminada, de modo que o processo de chapeamento vertical convencional não possa cumprir as exigências técnicas dos furos de alta qualidade, altos da interconexão da confiança, assim a tecnologia de galvanização horizontal.

Alguns dados convencionais para a malha do ânodo do titânio usada no chapeamento de cobre horizontal no PWB:

1. Tamanho de malha: 60-80 aberturas pela polegada linear

2. Diâmetro de fio: 0.15-0.20 milímetros

3. Revestimento: Platina, irídio, ou rutênio

4. Tamanho e forma: Combinado ao tamanho e à forma do PWB que está sendo chapeado

5. Pureza: Pelo menos 99,5%

Em termos de chapear parâmetros, alguns valores convencionais para uma solução típica do chapeamento de cobre usada na fabricação do PWB puderam incluir:

1. Concentração do sulfato de cobre: 180-200 g/l

2. Concentração ácida sulfúrica: 70-80 g/l

3. Temperatura: 25-30°C

4. pH: 1.0-1.5

5. Densidade atual: 1-3 ² de A/dm

Vale anotação de que os parâmetros de chapeamento específicos dependerão de uma variedade de fatores, incluindo a solução de chapeamento específica que estão sendo usados, o tamanho e a forma do PWB, e a espessura e a uniformidade de chapeamento desejadas. Estes valores devem ser usados como um ponto de partida, e podem precisar de ser ajustado com a experimentação e a otimização.

Desempenho e teste de vida eletroquímicos (refira HG/T2471-2007 Q/CLTN-2012)

1. Tipo de revestimento: titânio baseado, revestimento do Irídio-tântalo

2. Comparou as vantagens do ânodo de chumbo para a galvanização convencional

1) Baixa eletricidade do sulco, consumo de energia pequeno

2) A taxa de perda do elétrodo é pequena e o tamanho é estável

3) A resistência de corrosão do elétrodo é boa, e a insolubilidade não polui a solução, de modo que o desempenho de revestimento seja mais seguro.

4) Ânodo do titânio usando materiais e a estrutura novos, para reduzir extremamente seu peso, operação diária conveniente

5) A vida útil longa, e a matriz podem ser reutilizadas, custo de salvamento

6) A evolução do oxigênio overpotential é sobre 0.5V mais baixo do que aquele do ânodo insolúvel da liga da ligação, que reduz o consumo da tensão e de energia do tanque.

1. Chapeamento de cobre reverso horizontal do pulso do PWB

Porque as exigências de projeto da placa de circuito tendem a ser diâmetro de fio fino, alto densidade, abertura fina (profundidade alta à relação do diâmetro, mesmo micro-através dos furos), encher furos cegos, C.C. tradicional que galvaniza tornou-se cada vez mais incapaz de cumprir as exigências, especialmente no revestimento de galvanização do centro do furo do furo direto, geralmente a camada de cobre em ambas as extremidades da abertura é demasiado grosso mas a camada de cobre central é insuficiente fenômeno. O revestimento desigual afetará o efeito da transmissão atual e conduzi-lo-á diretamente à qualidade de produto pobre. Para equilibrar a espessura do cobre na superfície, especialmente nos poros e nos micropores, a densidade atual é forçada para diminuir, mas esta alonga o tempo de chapeamento a uma extensão inaceitável. Com o desenvolvimento do processo de galvanização do pulso reverso e dos aditivos químicos apropriados para o processo de galvanização, transformou-se uma realidade para encurtar o tempo de galvanização.

Processo eletrolítico típico:

Eletrólito: CuSO4/5H2O: 100-300g/L, H2SO4: 50-150g/L

Densidade atual dianteira: 500-1000A/m2

Densidade atual reversa: 3 vezes da densidade para a frente atual

Processo de galvanização: pulso em dois sentidos

Temperatura: 20-70℃

Tempo dianteiro: 19ms; Tempo reverso: 1ms

Exigência da vida: 50000kA

Tipo do ânodo: Ânodo dedicado do titânio da série do irídio

2. Chapeamento de cobre contínuo vertical da C.C. do PWB

Em processo do chapeamento de cobre contínuo vertical da C.C. no PWB, os aditivos orgânicos especiais são adicionados para promover a distribuição uniforme da camada e da superfície do depósito do metal da grão fina. Estes aditivos devem ser mantidos na melhor concentração para jogar sua melhor função e para obter a melhor qualidade de produto.

Isto exige o ânodo para cumprir não somente as exigências da vida, mas para reduzir igualmente o consumo de aditivos orgânicos, a fim reduzir o custo do consumo farmacêutico. Embora a vida útil do ânodo tradicional do titânio do irídio possa encontrar as exigências, mas o consumo de abrilhantador é grande. Nós melhoramos o processo e a fórmula do ânodo tradicional do titânio do irídio. O ânodo cobre-chapeado horizontal especial do titânio do PWB pode reduzir a taxa do consumo de aditivos orgânicos, quando a vida útil puder cumprir as exigências.

Processo eletrolítico típico:

Eletrólito: Cu: 60-120g/L, H2SO4: 50-100g/L, cl: 40-55ppm

Densidade atual: 100-500A/m2

Temperatura: 0-35℃

Exigências da vida: mais de 1 ano

Tipo do ânodo: ânodo especial do titânio da série do irídio

Vantagens: Boa uniformidade de galvanização, longa vida, economia de energia, densidade atual alta.

Malha do ânodo do titânio para o chapeamento de cobre horizontal no caso da aplicação do PWB

A malha do ânodo do titânio é usada frequentemente na indústria de galvanização devido a suas resistência de corrosão alta e condutibilidade elétrica. No caso do chapeamento de cobre horizontal em PCBs, a malha do ânodo do titânio pode ser usada como o material do ânodo no banho de chapeamento.

Durante o processo do chapeamento de cobre, a malha do ânodo do titânio é imergida no banho de chapeamento junto com a carcaça do PWB, que atua como o cátodo. Quando uma corrente elétrica é aplicada ao sistema, os íons de cobre da solução de chapeamento estão atraídos à superfície da carcaça do PWB e depositados nela, formando uma camada fina de cobre.

A malha do ânodo do titânio fornece uma fonte estável positivamente - de íons carregados ao banho de chapeamento, ajudando a manter o equilíbrio eletroquímico do sistema. Igualmente ajuda a impedir a formação de byproducts indesejáveis, tais como o gás do oxigênio, que pode interferir com o processo de chapeamento.

Total, usar a malha do ânodo do titânio no chapeamento de cobre horizontal em PCBs pode ajudar a melhorar a qualidade e a consistência da camada de cobre chapeada, ao igualmente reduzir o risco de defeitos e de outras edições que podem se levantar durante o processo de chapeamento.