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Meta de pulverização de titânio 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr Para revestimento PVD
| Materiais: | Titânio |
|---|---|
| Grau: | Categoria 1 |
| OD: | 90-600mm |
Discos de Titânio 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm para Falso Dente
| tamanho: | Personalizado |
|---|---|
| Tipo de alvo: | Rotativo |
| Densidade: | Personalizado |
99.995% Puridade Titânio Sputtering alvo PVD revestimento alvos de tubo rotativo
| Nome do produto: | Alvos de tubos de titânio |
|---|---|
| Material: | Titânio puro Grau 1 |
| Purificação: | 99.9%-99.999% |
PVD Metal Sputtering Target 100x40mm Decoração e revestimento de ferramentas
| Tamanho do grão: | < 100um |
|---|---|
| Tipo: | engasgando o alvo |
| Técnico: | Rolamento, forjado, CNC |
OEM PVD 5N+ 99,9995% Titânio Alvos de Alta Pureza Alvos de Semicondutores Filmes Finos
| Nome do produto: | Semicondutor Titânio alvos Material |
|---|---|
| Purificação: | 5N+(99,9993%-99,9995%) |
| Tamanho do grão: | < 100um |
990,9%-99,999% Pureza Deposição de filme fino Alvos de Titânio 3N-5N Alvos de pulverização de titânio
| Nome do produto: | Meta de titânio para deposição de filme fino |
|---|---|
| Materiais: | titânio puro |
| Purificação: | 3N-5N |
Alvos de pulverização de pureza única/múltipla personalizados com superfície polida
| Substrate Compatibility: | Customized |
|---|---|
| Purity: | 99.99% |
| Density: | Customized |
99.99% Puridade Sputtering Metais alvo com estrutura de cristal de superfície polida
| Surface: | Polished, Anodizing |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Crystal Structure: | Customized |
Alvo metálico personalizado para revestimentos de pulverização de configuração única ou múltipla Ra 0,8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
Meta de pulverização de liga de índio com substratos personalizados polidos e anodizados
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Surface Roughness: | Ra < 0.8 Um |