Titânio SS 304 PVD Coating Sputtering Targets 100*40mm 95*45mm 98*10mm para Indústria

Descrição

Alvos de sputtering são materiais a partir dos quais filmes finos são cultivados usando o método de sputtering. Esses alvos são fabricados processando metais ou cerâmicas.
Nós fornecemos produtos de alvo de sputtering em uma ampla variedade de materiais, purezas e formas, combinando tecnologias avançadas em fusão, sinterização, síntese e processamento mecânico de precisão.

Métodos de fabricação e personalização podem ser selecionados de acordo com sua aplicação e requisitos. Cada alvo é produzido usando o processo mais adequado para garantir desempenho e qualidade ideais.

Especificação

Aplicação

Alvos de Titânio

Alvos de sputtering de titânio são amplamente utilizados para revestimentos de ferramentas de hardware, revestimentos decorativos, componentes de semicondutores e revestimentos de telas planas.
Eles são materiais essenciais na produção de circuitos integrados, exigindo purezas tipicamente acima de 99,99%.

Alvos de Alumínio

O sputtering de alumínio é comumente usado em aplicações de semicondutores e para revestimentos de filmes finos devido à sua versatilidade e excelente resistência ao calor. É amplamente utilizado nas indústrias de eletrônicos, aeroespacial e bens de consumo.

Alvos de Cobre

Os alvos de cobre são ideais para aplicações que exigem alta condutividade elétrica, como eletrodos, fiação e filmes para para-brisas.

Alvos de Estanho

O sputtering de estanho aumenta a resistência à corrosão e é usado para melhorar as propriedades da superfície de outros materiais.

Alvos de Zinco

Os alvos de zinco são aplicados por suas capacidades de proteção contra corrosão, comumente usados na produção de cátodos, baterias, propelentes e tintas.

Alvos de Metais Preciosos (Platina, Prata, Ouro)

Esses alvos fornecem inércia química e condutividade elétrica excepcionais, tornando-os excelentes para instrumentação, sensores e eletrodos.