O metal que engasga o zircônio de alumínio de Chrome do titânio do alvo níquel a evaporação de revestimento do molibdênio PVD do tântalo do nióbio

Lugar de origem China
Marca CSTI
Certificação ISO9001
Número do modelo 20221010
Quantidade de ordem mínima 1piece
Preço $35.00 - $125.00/ kg
Detalhes da embalagem Interior selado vácuo do pacote; caso ou caixa de madeira da exportação fora
Tempo de entrega 7~20 dias do trabalho
Termos de pagamento T/T, L/C
Habilidade da fonte 10000 partes/partes pelo mês

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Detalhes do produto
Materiais O zircônio de alumínio de Chrome do titânio níquel o molibdênio do tântalo do nióbio Forma cilindro/planar, redondo/placa/tubo
Tamanho Círculo: Φ100*40, Φ98*40, Φ95*45, Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 etc. (D) 70/100* (H) 100-2000mm pureza 2N5-5N
Aplicação Revestimento de PVD, campo de galvanização, revestimento do filme fino, indústria de vidro Cor do revestimento Ouro de Rosa/café/ouro/arma do champanhe cinzenta/preta/ouro/azul/arco-íris/preta/de prata claro/bra
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Metal de revestimento da evaporação de PVD que engasga o alvo

,

Nióbio redondo que engasga o alvo

,

Nióbio de alumínio que engasga o alvo

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Descrição de produto

Metais Sputtering alvo Titânio Alumínio Cromo Zircônio Níquel Nióbio Tântalo Molibdênio PVD revestimento evaporação

Os alvos de pulverização de metais são usados em processos de deposição física de vapor (PVD) para revestir materiais com uma fina camada de metal.cromo, zircônio, níquel, nióbio, tântalo e molibdênio.

Ponto Purificação Densidade Cor do revestimento Forma Tamanho normal  
Meta de liga de titânio (TiAl) 2N8-4N 3.6-4.2 Ouro rosa/café/champagne cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm

Revestimento decorativo PVD

& revestimento duro

Meta de cromo puro (Cr) 2N7-4N 7.19 cinza/preto cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Meta de titânio puro (Ti) 2N8-4N 4.51 Ouro/Ouro-rosa/Azul/Arco-íris/Negro claro/Cinza cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Alvo de Zircônio puro ((Zr)) 2N5-4N 6.5 ouro claro cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Alvo de alumínio puro (Al) 4N-5N 2.7 prata cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Meta de níquel puro (Ni) 3N-4N 8.9 Níquel cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Meta de nióbio puro (Nb) 3N 8.57 Branco cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Alvo de Tântalo puro (Ta) 3N5 16.4 preto/puro cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Meta de molibdênio puro (Mo) 3N5 10.2 preto cilindro/planar (D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Observações: O tamanho pode ser personalizado de acordo com os requisitos específicos

 

Área de aplicação
 
Utilizado em processos de deposição, incluindo deposição de semicondutores, deposição química de vapor (CVD) e deposição física de vapor (PVD)
Utilizado para óptica, incluindo proteção contra desgaste, revestimentos decorativos e exibições

Vantagem do produto

01Alta pureza química

02Baixo teor de gás

03Densidade próxima de 100%

04Grãos uniformes

05Estrutura interna densa e homogénea

Metais de pulverização utilizados em várias aplicações de deposição física de vapor (PVD) e revestimento por evaporação

Os métodos de produção de metais são variados, incluindo a deposição de películas finas sobre uma variedade de substratos.

1Titânio: os alvos de pulverização de titânio são comumente utilizados em aplicações de revestimento por PVD e evaporação para depositar filmes finos em uma variedade de substratos.O titânio é um material popular para utilização em revestimentos porque é biocompativel e tem excelentes propriedades mecânicas

2Alumínio: os alvos de pulverização de alumínio também são utilizados em aplicações de revestimento por PVD e evaporação, especialmente na produção de revestimentos refletores e componentes eletrônicos.Os revestimentos de alumínio têm boa condutividade elétrica e são altamente reflectantes, tornando-os ideais para utilização em aplicações ópticas e electrónicas.

3.Cromo: os alvos de pulverização de cromo são utilizados em aplicações de revestimento PVD e de evaporação para uma série de fins industriais e decorativos, incluindo a produção de revestimentos decorativos,componentes para automóveis, e componentes eletrónicos.

4.Zircónio: os alvos de pulverização de zircónio são comumente utilizados em aplicações de revestimento de PVD e evaporação por seu alto ponto de fusão e excelente resistência à corrosão.Os revestimentos de zircônio são comumente utilizados na produção de revestimentos decorativos e componentes eletrônicos de alto desempenho.

5. Níquel: os alvos de pulverização de níquel são amplamente utilizados em aplicações de revestimento por PVD e evaporação, especialmente na produção de películas finas magnéticas e revestimentos para componentes eletrônicos.Os revestimentos de níquel também são comumente usados em aplicações decorativas.

6Nióbio: os alvos de pulverização de nióbio são utilizados em aplicações de revestimento de PVD e evaporação por seu alto ponto de fusão, baixo coeficiente de expansão térmica e excelente resistência química.Os revestimentos de nióbio são comumente utilizados na produção de componentes eletrônicos de alto desempenho e revestimentos ópticos.

7. Tântalo: os alvos de pulverização de tântalo são utilizados em aplicações de revestimento de PVD e evaporação por seu alto ponto de fusão, excelente resistência química e baixa pressão de vapor.Os revestimentos de tântalo são comumente utilizados na produção de capacitores, componentes eletrónicos e implantes médicos.

8. Molibdênio: os alvos de pulverização de molibdênio são utilizados em aplicações de revestimento por evaporação e PVD devido ao seu elevado ponto de fusão, baixo coeficiente de expansão térmica,e excelente condutividade elétricaOs revestimentos de molibdênio são comumente utilizados na produção de componentes electrónicos de alto desempenho e revestimentos ópticos.