Indium Bonded HIP Metal Sputtering Target para vários revestimentos de filme

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Detalhes do produto
Target Bonding Indium Forming Process Hot Isostatic Pressing(HIP)
Surface Polished, Anodizing Material Metal
Thickness 10-600mm Density Customized
Coating Method Sputtering Crystal Structure Customized
Destacar

Alvo de pulverização de metais HIP

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Meta de pulverização de metais ligados a ínio

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Cálculos de revestimento metais alvo de pulverização

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Descrição de produto

Descrição do produto:

Feito de materiais metálicos de alta qualidade, o nosso alvo de pulverização de metal é construído para durar.Este produto é perfeito para uma ampla gama de aplicações e compatível com substratos personalizados.

O nosso produto Metal Sputtering Target é ligado com Índio, garantindo uma ligação forte e segura que dura mesmo nas condições mais exigentes.Incluindo a fabricação de semicondutores e a deposição de películas finas.

Se você estiver usando um feixe de aço carbono I ou uma arma de revestimento de pó eletrostático, nosso produto de metais irá fornecer a precisão e precisão necessárias para o seu projeto.Confia no nosso produto para entregar os melhores resultados sempre.


Características:

  • Nome do produto: Meta de pulverização de metais
  • Processo de moldagem: prensagem isostática a quente (HIP)
  • Revestimento da superfície: polido
  • Espessura: 10-600 mm
  • Forma: redonda
  • Superfície: Polida, anodizante

Nosso alvo de pulverização de metal é produzido usando o processo de prensagem isostática quente (HIP), resultando em um produto de alta qualidade com um acabamento de superfície polido.e a forma é redondaA superfície alvo está disponível em acabamento polido ou anodizado para atender às suas necessidades específicas.Impressão 3D de pó metálico, e transportador de detectores de metais industriais.


Parâmetros técnicos:

Atributo Valor
Forma Rondas
Configuração do alvo Indicado como único ou múltiplo
Ligação de alvos Ácido acético
Estrutura cristalina Personalizado
Técnica Forjados e Machinados CNC
Processo de formação Pressão isostática a quente (HIP)
Materiais Metal
Espessura 10-600 mm
Revestimento de superfície Polido
Densidade Personalizado

Aplicações:


Personalização:

O nosso produto Metal Sputtering Target vem com serviços personalizáveis para atender às suas necessidades específicas.e a estrutura de cristal pode ser personalizada para as suas necessidadesO material alvo é feito de metal de aço ligado, garantindo durabilidade e longevidade..

A nossa equipa de peritos pode ajudar-vos na personalização do produto para as vossas necessidades específicas de aplicação.Podemos ajudá-lo a alcançar os resultados desejadosContacte-nos hoje para saber mais sobre os nossos serviços de personalização de produtos.

Nosso produto de metais de pulverização é perfeito para várias aplicações, como feixe de aço carbono I, máquina de detecção de metal transportadora e muito mais.


Apoio e Serviços:

Os nossos alvos de pulverização de metais são projetados para atender aos mais altos padrões da indústria de pureza, composição e uniformidade.,Os nossos alvos estão disponíveis em vários tamanhos e configurações para satisfazer as suas necessidades específicas de aplicação.

Para além dos nossos alvos de alta qualidade, também oferecemos apoio técnico e serviços para garantir o melhor desempenho do seu sistema de pulverização.solução de problemasTambém oferecemos serviços de ligação de alvos para fornecer uma ligação segura e confiável entre o alvo e a placa de apoio.

Em nossas instalações de última geração, utilizamos técnicas de fabricação avançadas e rigorosos processos de controle de qualidade para entregar alvos da mais alta qualidade.Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre os nossos Metais Sputtering alvos e como podemos apoiar as suas aplicações de pulverização.